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熱噴涂及冷噴涂技術(shù)領(lǐng)域科技成果 / 多晶硅反應(yīng)爐銅電極修復及其表面銀涂層制備

成果基本信息
成果名稱
多晶硅反應(yīng)爐銅電極修復及其表面銀涂層制備
技術(shù)領(lǐng)域
新材料
應(yīng)用行業(yè)
金屬材料
技術(shù)成熟度
中試
成果內(nèi)容介紹

針對多晶硅還原爐電極銀涂層的制備瓶頸,采用冷噴涂技術(shù)開發(fā)高性能純銀涂層,提高了電極的導電性。同時,涂層厚度不受限制,結(jié)合力強,可減少以至于消除電極的雜質(zhì)析出,壽命大幅延長,從3個月提高到超過3年,進而可保證多晶硅制備的純度與效率。另外,冷噴涂工藝還可對已受損的電極進行修復,從而實現(xiàn)電極再制造。在其他工業(yè)領(lǐng)域中,已經(jīng)實現(xiàn)冷噴涂技術(shù)對零部件的再制造,與制造新品相比,不但可節(jié)省成本50%、節(jié)材70%,且再制造產(chǎn)品已接近或超過原有新品的質(zhì)量和性能。因此,冷噴技術(shù)有望成為制備多晶硅反應(yīng)爐銀涂層電極、修復局部失效電極的有效手段,具備非常好的市場應(yīng)用前景。


專利名稱
多晶硅反應(yīng)爐銅電極修復及其表面銀涂層制備
專利號
(1)CN110328460A
合作方式
合作開發(fā)
聯(lián)系人
謝迎春
聯(lián)系方式
18802034985
單位
廣東省科學院新材料研究所
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